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造出ASML那种光刻机,我们中国需要多久,需要做什么?

作者:太平洋在线下载发表时间:2021-11-16 18:06:12浏览:

题主所指ASML光刻机太平洋后台下载、应该是指制程在7nm以下芯片ASML的EUV光刻机。这种光刻机、是制程高端芯片的核心设备,由几万个零部件组成,集聚了许多高科技顶尖技术太平洋手机网。有人形容光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”。而当前5G移动终端中的关键芯片,只有ASML的EUV光刻机能制程7nm甚至5nm的高端芯片。那我们中国需要多久才能制造出这种高科技水平的光刻机呢?一、我们的光刻机技术有一定储备,起步不算太晚太平洋在线官网下载。...
文本标签:中润光学车间生产图片

题主所指ASML光刻机太平洋后台下载、应该是指制程在7nm以下芯片ASML的EUV光刻机。

造出ASML那种光刻机,我们中国需要多久,需要做什么?

这种光刻机、是制程高端芯片的核心设备,由几万个零部件组成,集聚了许多高科技顶尖技术太平洋手机网。有人形容光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”。而当前5G移动终端中的关键芯片,只有ASML的EUV光刻机能制程7nm甚至5nm的高端芯片。

造出ASML那种光刻机,我们中国需要多久,需要做什么?

那我们中国需要多久才能制造出这种高科技水平的光刻机呢?

造出ASML那种光刻机,我们中国需要多久,需要做什么?

一、我们的光刻机技术有一定储备,起步不算太晚太平洋在线官网下载。但因选择路径方向问题起了个大早、却没能赶上晚集。

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我国早在1956年就将半导体技术列为当时国家新技术的紧急措施,比日本还早二年。並在1958年中科院拉出了中国第一根硅单晶,即今天的硅晶圆。1980年,清华大学研制出第四代分布式投影光刻机、精度高达3微米接近国际主流水平,仅次于美国。

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而到了今天,用中科院微电子所刘明院士的话说:国内的光刻机技术与国外技术差距有15到20年。本来我们可以在光刻机技术上与ASML一争雄长,但我们放弃了。导致现在每年80/%的芯片靠进口,2019年超过了二万亿、出了大钱还要看人脸色。

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二、中国需多久才能造出媲美ASML的EUV光刻机。

在高端芯片生产上我们并不弱。如北斗三号导航系统芯片、超级计算机、载人航天的嫦娥四号、歼20高性能芯片等等都是国产自主、顶级领先的。这些技术和产品、美国是不可能卖给我们的。

所以,在光刻机制造芯片领域我们不是整体落后、有一定技术储备和设备基础。

科技随着市场走,从商业化考虑的是性能和成本。芯片的投入比是市场价的20/%,不是纯利润的20/%。如高通的40/%利润在中国,没有足够的利润支撑进一步科技投入,光刻机技术进步将放缓、也给我们追赶顶端光刻机技术留下了宝贵时间。

美国禁售华为芯片,华为的确受困。但中国产品去美化、我国加大政策扶持力度、增加资金投入和研发光刻机进度,与先进水平的距离就会减小到7到8年。

还有,科学技术日新月异,光刻机研发技术和手段丰富多样化。以前造一架飞机图纸就要几卡车、造两弹一星用手摇计算机要很长时间,现在辅以其它设施一部电脑就够了,技术手段也更加先进和多样化。中国有众多卓越的科研人员、齐全的工业体系、集中力量办大事的传统,在3到5年时间内即可生产出媲美ASML的EUV光刻机。

局座张召忠面对媒体说过这样一句话:“三年后美国的芯片卖不出去,满大街都是”。寓意是中国造出顶端光刻机后对美国的芯片会大幅减少依赖。

三、中国现在攻关制造顶级光刻机需要做什么?

具体来说:是政策支持、尊重科学、实事求是、砥砺前行。

1、我国巳出台相关政策,加大了对半导体行业的扶持力度。策略上将实事求是由点到面、由易到难自主地“科学造机”而不是“运动造机”。

2、面向世界招揽人才,如数学、化学和物理、自动化控制软件、精密机械加工、图像识别等等专家,集众才之智得制造顶级光刻机之益。

3、汇聚国内科研力量、加大光刻机研发力度。在极紫外光源控制、透镜精密加工工艺、掩膜材料筛选使用,及光刻胶、CMP抛光液、电子气体等方面我们国产化率还低于20/%,还要进行攻关做到自主产权的产品用到尖端光刻机上面。

4、完善制造顶级光刻机零部件生产的产业生态链。由于美国利用《瓦纳森》协议封锁了EUV光刻机制造技术和设施及设备,如仅凭华为一家去闯会困难更重。所以应整合全球顶级设备商的能力,在集中力量攻坚克难、自主研发的基础上,面向世界全方位寻友借力并举来加快研发制造进程。

ASML公司曾表示,即使将EUV图纸公开,也没人能造的出来。

但相信中国即使没有EUV图纸,也能造出媲美EUV的光刻机来。因为光刻机是人造出来的,不是神造出来的。

今天是 2021.11.16
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